薄膜厚度測量系統(tǒng)
Thin Film Thickness Measurement System
快速、準(zhǔn)確、無損、靈活、易用、性價(jià)比高
產(chǎn)品簡介：
TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)利用薄膜干涉光學(xué)原理，對(duì)薄膜進(jìn)行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線。TF200根據(jù)反射回來的干涉光，用反復(fù)校準(zhǔn)的算法快速反演計(jì)算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm，可同時(shí)完成多層膜厚的測試。對(duì)于100nm以上的薄膜，還可以測量n和k值。
應(yīng)用領(lǐng)域：
半導(dǎo)體（SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS，SOI等）
LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等)
LED (SiO2、光刻膠ITO等）
觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等)
汽車(防霧層、Hard CoatingDLC等）
醫(yī)學(xué)（聚對(duì)二甲苯涂層球囊/導(dǎo)尿管壁厚藥膜等）
產(chǎn)品的優(yōu)勢(shì)
應(yīng)用案例（數(shù)據(jù)可靠）
薄膜厚度測量系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)
| 型號(hào) | Delta-VIS | Delta-DUV | Delta-NIR |
| 波長范圍 | 380-1050nm | 190-1100nm | 900-1700nm |
| 厚度范圍 | 50nm-40um | 1nm-30um | 10um-3mm |
| 準(zhǔn)確度1 | 2nm | 1nm | 10nm |
| 精度 | 0.2nm | 0.2nm | 3nm |
| 入射角 | 90° | 90° | 90° |
| 樣品材料 | 透明或半透明 | 透明或半透明 | 透明或半透明 |
| 測量模式 | 反射/透射 | 反射/透射 | 反射/透射 |
| 光斑尺寸2 | 2mm | 2mm | 2mm |
| 是否能在線 | 是 | 是 | 是 |
| 掃描選擇 | XY可選 | XY可選 | XY可選 |
注：1.取決于材料0.4%或2nm之間取較大者。
2.可選微光斑附件。
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